金属に敏感なプロセスに適したコンディショナーをお探しですか?3M™ CMPパッドコンディショナーコーティングは、パッドコンディショナーの上に耐久性のあるコーティングを行うことで、金属溶出を最大75%低減することができます。このコーティングシリーズを3Mの焼結技術と組み合わせることで、マイクロスクラッチおよびマクロのスクラッチなどのディフェクトをさらに抑制することが期待されます。
3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナー Cシリーズは、化学的機械的平坦化(CMP)用にデザインされたパッドコンディショナーで、 半導体CMPアプリケーションで信頼性の高いパフォーマンスを発揮します。3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナー Cシリーズでコンディショニングすると、パッドの摩耗が最小限に抑えられ、一貫性のあるアスピリティでウエハーが変わっても均一なパッド性能を維持することができます。3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナー Cシリーズは、3M独自の焼結技術により、優れたダイヤモンド保持力を有しており、さらに当社従来品と比べてダイヤモンドの形状と配列がコントロールされています。ディスク間、ディスク内のばらつきが小さくなることで、プロセスの安定性が向上し、CMP性能の最適化に貢献します。